30. November 2018 in München: FORUM, Institut für Management

Deutsche und chinesische Gebrauchsmuster

Die gefährlichsten IP-Waffen in Angriff und Verteidigung

Ziel des Seminars
Dieses Seminar vermittelt Ihnen, wie Sie das deutsche und chinesische Gebrauchsmustersystem strategisch maximal effizient einsetzen können. Das notwendige Wissen wird anhand einer Vielzahl von Case Studies vermittelt, die alle tatsächlichen Fällen aus der Praxis nachgebildet sind. Zugleich erhalten Sie einen aktuellen Überblick über die zentralen Entwicklungen der Rechtsprechung zu Offenbarung, Schutzfähigkeit und Schutzbereich. Durch die Bezugnahme auf das chinesische Gebrauchsmustersystem wird eine globale Perspektive vermittelt, da das Gebrauchsmusterrecht in Deutschland und China die im internationalen Vergleich mit Abstand größte Rolle spielt.

Zielgruppe
Sie sind als Mitarbeiter einer Rechts-, IP-, Patent- oder F&E-Abteilung zuständig bei Verletzungen technischer Schutzrechte und möchten Ihr Arsenal um eine weitere IP-Waffe ergänzen? Oder beraten Sie als Rechtsanwalt oder Patentanwalt auf diesem Feld? Dann ist dies das richtige Seminar für Sie! Vorkenntnisse im gewerblichen Rechtsschutz werden vorausgesetzt.

Programm
Das Gebrauchsmusterverletzungsverfahren: der effizientere Patentverletzungsprozess?
Dr. Matthias Zigann

• Übersicht über das Gebrauchsmusterverletzungsverfahren
• Wie weit reicht der Schutzbereich?
• Welche Rolle spielt der Einwand fehlender Schutzfähigkeit?
   

Das Zusammenspiel von Patent- und Gebrauchsmusterverletzungsprozess: welche strategischen Möglichkeiten ergeben sich hier?
Dr. Matthias Zigann, Dr. Tobias Wuttke

• Jedes Schutzrecht ein eigener Streitgegenstand
• Konzentrationsmaxime gem. § 145 PatG nicht anwendbar
• Sukzessive und parallele Angriffe 
  
   

Gebrauchsmuster und einstweilige Verfügung: Düsseldorf, Hamburg, Mannheim, München? Die Besonderheiten der Standorte
Dr. Matthias Zigann, Dr. Tobias Wuttke
 

Die Abzweigung aus PCT/EP-Anmeldungen: welche Optionen bietet der (neue) Offenbarungsbegriff des BGH?
Dr. Tobias Wuttke

• Was bedeutet "unmittelbar und eindeutig" vor dem EPA und dem BGH?
• Mehrfache/wiederholte Abzweigungen - gibt es eine Grenze? 
  
   

Das Gebrauchsmusterlöschungsverfahren - Überraschungen vermeiden
Dr. Tobias Wuttke

• Voraussetzungen des erfolgreichen Löschungsantrags
• Löschungsantrag und parallele Amtsrecherche nach § 7 GebrMG?

Gebrauchsmuster in China: worauf man sich einstellen muss und wie man dieses Instrument für eigene Zwecke nutzen kann
Dr. Oliver Pfaffenzeller

• Das chinesische Gebrauchsmuster als Waffe
• Notarisierung von Beweismitteln in China
• Anmeldestrategien für Erfindungen außerhalb Chinas

Referenten
Dr. Matthias Zigann, Vorsitzender Richter, Landgericht München I, 7. Zivilkammer, München
Dr. Oliver Pfaffenzeller, Head of IP Team, Siemens AG, München
Dr. Tobias Wuttke, Partner / Fachanwalt für Gewerblichen Rechtsschutz, Meissner Bolte, München

Datum: 30. November 2018, 09:00 Uhr – 17:00 Uhr
Veranstaltungsort: Courtyard by Marriott Munich City East, Orleansstraße 81 – 83, 81667 München
Gebühren: € 1.030,00 netto, inkl. hochwertiger Dokumentation, Zertifikat, Arbeitsessen, Erfrischungen und Kaffeepausen 

Web: https://www.forum-institut.de/seminar/1811171-deutsche-und-chinesische-gebrauchsmuster
Registrierung: https://www.forum-institut.de/checkout/chooseoptions/434